工业自动化发展热潮于是以大大加剧，特别是在是在可保证设备安全性和可靠性的隔绝设计方面上堪称兴起了巨量的设计市场需求，惹来相当可观的商机。工业自动化四大技术挑战为了帮助业界人士加快构建涉及解决方案，本文除针对工业自动化目标市场的隔绝应用于，专心于可编程逻辑控制器（PLC）和工厂自动化的发展展开详尽的市场与技术分析外，也详尽说明了新型互补式金属氧化物半导体（CMOS）数字隔离器相比于传统光耦合隔绝方案对工业自动化应用于所带给的显著优势。工业自动化的发展道路上，所包括的许多技术挑战还包括：第一：设备安全性无法让步．安全性功能至关重要。

．产品在低形变下性能必需平稳。第二：低噪声环境中的长时间工作．工厂外部电／磁场的抗干扰性低。．低电压瞬变噪声的抗干扰能力强劲。第三：产品使用寿命宽．整个温度范围，有所不同VDD电压，以及长年用于时，关键参数必需平稳。

．在低形变下产品使用寿命宽。第四：高性能．产品性能必需世界顶尖。

．较低延后和较低延后偏差以保证高效率和吞吐量。基于上述的技术挑战，限于于工业自动化的高性能隔绝产品也必需是低安全性，低抗干扰性与长寿命。工厂不存在很多高压设备，利用隔绝方案不仅能维护电子系统和人员，也能诱导噪声以保证设备的可靠度和稳定性。随着工业自动化应用于对涉及设备的性能拒绝提高，内辟隔绝技术也开始再次发生改变，传统的隔绝用于光耦合技术，由于先天的特性渐渐无法符合工业自动化设计市场需求，还包括可靠性较好、时序特性不欠佳、无余裕的共模瞬态噪声免疫系统（CMTI）、能源效率低等，使业界开始将目光移到新型的CMOS电容耦合数字隔离器方案。

用于差分电容耦合技术CMOS数字隔离器展览高效CMOS数字隔离器使用电源键控调制技术的CMOS设计，并用于差分电容耦合，可以达成协议低可靠度和稳定性，会随温度、工作电压和产品寿命而转变，另外还不具备卓越的时序特性，还包括较低传输延时、较低传输延后偏差等。更加最重要的是，CMOS数字隔离器具备高共模瞬态噪声免疫系统（CMTI），而且相对于光耦，只必须较小的功率，因此可以减少总体系统功耗。图1及图2为传统光耦和CMOS数字隔绝方案的较为。

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